第363（2 / 2）

到那时候这专利也不再具有独一无二性。

咋办呢？

所以提高光刻机的性能是必备选项。

一口吃个大胖子不可能，再说现在的技术也远远没达到二十世纪末的标准。

极紫外光刻技术这个杀手锏与这个时代格格不入。

国内半导体设备想要发展，也得循序渐进的来。

事实上在七十年代，还是硅谷那边的半导体厂商在打架，日本半导体产业远没有那么强有力的竞争力。

马萨诸塞州的perk elr率先搞出了投影式光刻机icralign100，让芯片不再那么贵不可攀。

几年后，gca公司又推出了步进式光刻机dsw4800。

从特曼教授寄来的杂志中不难看出，这台步进式光刻机有着

更先进的制程，更高的良品率以及提供更高的芯片性能。

pe的市场被gca蚕食。

而在亚洲，日本的尼康和佳能这两个光学行业的佼佼者也才刚刚入局半导体设备行业。毕竟此时的光刻机技术还没有那么精细，光学行业的顶流用一星半点的技术，就足以追赶眼下的光刻机时髦。

一水之隔的中国，想要追上这脚步却并不轻松。

因为国内并没有太好的光化学公司。

昔日参与了国内第一台光刻机研发的上海光学仪器厂，做不出如此高精度的镜头。

而这，正是南雁给半导体研究中心的难题。

技术性的难题绝不是一星半点，更何况还有镜头这个致命缺陷在。

“别看现在gca一家独大，等着吧，用不了几年，尼康就能后来居上。”

王主任也不是傻子，明白南雁的言外之意，“镜头，gca用的是德国的蔡司镜头。”

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