第319章集成电路大会（2 / 2）

总理见身后交谈声一片,现场有些要乱了的节奏，便笑着站了起来,对大家说道:“请同志们都静一静，有问题我们下午再讨论，请继续听讲演。”

总理出面，这才使得大家安静了下来，而方叶就此开始讲起了集成电路的基本原理,他从硅片生成开始讲起，从光学蚀刻到电踱,再到氧化物掺杂，最后讲到集成电路ic的形成。

当然这里只讲述了基本路径和原理，其中许多关键步骤，他并没有讲，主要是涉及的工艺技术路线，那本身既是华昌的保密技术，也是国家的保密技术，不可能全部对外公开，除非是获得了许可的自己人。

集成电路是如何工作的，方叶又进行了讲解,这里他干脆放起了从b站上下载下来的视频,不过视频的字幕被除掉了，也进行了消音处理,改由方叶口述讲解，比如关键的硼、磷等元素，全部被他略去，只说元素的掺杂对电子共价键的影响，如何实现了导电的原理。

他从pn结讲到了npn结构和pnp结构的半导体,这些对于半导体专业的林兰英、谢希德、汤定元等人都并不难理解，何况方叶的讲述之中，不仅有文字，还有原理图和剖面图，可以说作为基本科普，资料已经十分的详实了。

方叶滔滔不绝的讲述了近两个小时，他将集成电路所有的基本原理全部都讲述了一遍，而后又讲解起了实现途径。

“这是新中国的第一台光刻机,采用接触光刻的原理。quot;方叶又放起了图片，讲起了起来:“所谓接触就是指硅片与光刻机的上的光学研模版是压和在一起的。”

“1955年美国贝尔实验室的物理学家杰伊.拉斯罗普和他的实验室伙伴发明了光刻机,这一次中国人并不比美国人晚，我们事实上早在1952年就展开了相关的研究,历时四年,至今年四月,我们成功的研制出了世界上第一台可投入批量生产的实用型光刻机

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