第219节（2 / 2）

当然现在更不用提，别说光刻工艺，连钻研掩膜制造的人都少，而国外呢？接触式光刻是人家六十年代玩的东西。

就这，国内都没赶上。

其实正确的思路是什么呢？

改变光刻工艺！

这是从根本上提升效率和功能的办法。

在孙梦毓看来，如今的芯片制造只能说是半自动化，用来生产芯片的机器至少差国际水平二十年。

“我认为咱们芯片制造工艺走入了一个误区，可能是接触式光刻方法的影响，致使咱们的视线都集中在掩膜上，不如转换思路，从光刻工艺上入手。”

“例如分步投影光刻技术。”

老专家眼睛一亮，示意孙梦毓说说看。

“所谓分步投影光刻技术即一次只投影一个曝光场（这可能是硅片上的一个或多个芯片），然后步进到硅片上另一个位置重复曝光。这类技术的光刻机使用的是投影掩模板，上面包含了一个曝光场内对应的一个或多个芯片的图形。然后光学投影曝光系统使用折射光学系统把版图投影到硅片上。”2

孙梦毓接着详细说了这项技术的优点，当然难点同样没有遮掩。

这项技术按原来的历史进程，出现于七十年代初的扶桑国、星条国等国家，这两个国家有个共同点，发了战争财，有充足的资金和人力去搞研究。尤其扶桑国，它们凭借着发展半导体，四处抢占市场，可以说现如今半导体便是他们下金蛋的金鸡。

说了这么多，只是想表达一个意思，这项技术要想实现必须要有钱有人。

孙梦毓说到一半，老专家拽过不知道谁的本子，开始疯狂记录，有孙梦毓的话，也有他的灵感。

最后说完，老专家也已经写了四五页，密密麻麻，他和搂着宝贝似的，紧紧攥着本子。

本要再详细和孙

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